噴霧熱分解装置、加熱装置、分析装置、研究開発用設備、原子力・半導体関連装置、計測装置等の開発・設計・製造・販売、オーエヌ総合電機株式会社

オーエヌ総合電機株式会社
分析装置、研究開発用設備、原子力・半導体関連装置、計測装置等の開発・設計・製造・販売、オーエヌ総合電機株式会社
 
ウェット式エッチング装置
 
 
エッチング処理やレジスト除去する装置
 
半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、
X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。
クリーンルーム仕様で、ドラフト構造になっています。
製品特長
発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。
使用不可となった薬液(フッ酸、 塩化鉄)と、有機溶剤(アセトン)は付設の専用タンクへ一括排出。
クリーンルームでも使用できるドラフト構造。
薬液槽、及び純水槽にはN2ガス散気システムを装備。バブリングにより、各液体の混合と、
  高レベルの洗浄効果を発揮。
薬液槽はすべてPVC製トレイ上に設置。さらにアセトン槽には、SUS製トレイを設け、
  液ダレやオーバーフロー、排水への薬液混入に対処。
処理工程プログラムは、10パターンを任意で設定可能。複雑な処理工程も、多彩なワークで対応。
自動消火システムと炎検知センサーにより、万が一の発火にも、
  CO2ガス噴射ですばやい消火が可能。
 
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