噴霧熱分解装置、加熱装置、分析装置、研究開発用設備、原子力・半導体関連装置、計測装置等の開発・設計・製造・販売、オーエヌ総合電機株式会社

オーエヌ総合電機株式会社
分析装置、研究開発用設備、原子力・半導体関連装置、計測装置等の開発・設計・製造・販売、オーエヌ総合電機株式会社
 
レジスト液加温塗布装置
 
 
薬液をスプレー塗布する装置
 
半導体関連で使用されるシリコンウェハー・ガラス基盤等のワークを、任意のスピードで回転させながら、常温または加温した薬液をスプレー塗布する装置です。
標準仕様
項 目 内 容
材質 本体 鋼板製    塗布部 塩ビ製
ユ-ティリティ 純水1/4RC 圧縮空気1/4RC 排水1/4RC
外形寸法 W800×H1500×D500
電源 AC100V 10A
 
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